Отличительной особенностью разработки по сравнению с аналогами является возможность использования четырёхзондовой головки при температуре до 300 °C в вакуумных камерах с остаточным давлением до 9∙10-6 Па. Данное преимущество достигается за счёт использования в конструкции головки только материалов с низким газовыделением, не подверженных разложению при повышенной температуре. Эти особенности позволяют проводить измерения поверхностного и удельного сопротивления непосредственно в процессе роста покрытий на диэлектрических и полупроводниковых подложках без необходимости охлаждать образец до комнатной температуры и развакуумировать технологическое оборудование.
Остек-Электро продолжает разработки специального технологического оборудования, оснасток и средств измерения в интересах отечественной электронной промышленности и представит в ближайшем будущем новые образцы техники.
Источник: Остек-Электро